什么是硅烷化处理?
在金属,玻璃及陶瓷等耐高温基质表面,采用化学气相沉积(CVD)工艺在基质表面键合一层纳米级非晶硅或者氧化硅,
从而改善基底材料表面性能,如减少金属吸附影响、增加惰性、更加耐受酸腐蚀,增强疏水性及硬度等。
防止活性介质发生吸附,减小目标物损失、响应丢失问题,缩短无效分析检测时间,提高效率,适用于硫化物、汞和氨气等微痕量目标的分析。
涂层具有较低的化学比表面能,有效防止目标分析物在流路表面粘附堆积引起的流路堵塞。
镀层与基体间结合力强,键合力强,从而提升了设备的使用寿命,降低成本,减少维护时间。
延长了工件在酸性环境下的使用寿命,例如在盐酸、氯气等环境(局限性:不耐HF和强碱)。
厚度可控,彩色镀膜的厚度在300-500nm左右。
增加表面疏水性,不锈钢表面镀膜后的接触角约106度。
Diamy硅烷化接头
Diamy硅烷化服务
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